60周年
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成果類別 科專研發
產出年度 99
計畫名稱 電漿表面處理實驗室
技術類別 生技製藥技術
搭配推廣專利
技術現況敘述 多靶源複合物理蒸鍍系統，涵蓋濺鍍源，陰極電弧源，離子源鍍膜技術及其複合鍍膜技術，目前以超硬質類鑽石鍍膜為技術開發標的。
技術規格 類鑽石膜，薄膜硬度≧Hv6000，摩擦係數≦0.09，SP3 ≧50%
可移轉技術名稱(中) 濺射?電弧?離子源複合鍍膜技術
可移轉技術名稱(英) Hybrid of sputter, arc and ion source coating technology
可應用範圍 精密加工用刀具與模具等，微型零組件用功能性鍍膜
市場(產品/服務)潛力預估 中等以上
所需之主要軟硬體設備 濺鍍機，電弧鍍膜機，離子源複合鍍膜機
總聯絡窗口 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
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更新日期：108-03-18　/　維護單位：系統管理者
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