60周年
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成果類別 科專研發
產出年度 107
計畫名稱 高頻電漿強化化學氣相沉積製程設備開發
技術類別 產品分析、產品設計、製程開發、
搭配推廣專利 化學氣相沉積設備、用於化學氣相沉積設備之方法及非暫態電腦可讀取媒體
技術現況敘述 採用OES儀器搭配自行設計之夾具，及圖控軟體，整合為一監控系統，所監測獲得之訊息需透過人工解讀並整理，根據製程過程中產生之氣體份子，所獲得之資訊給予使用者回饋並鑒別所謂製程穩定性，乃至設備狀況等資訊，該工作流程係具有獨特性。
技術規格 1.電漿頻率:13.56MHz~40.68MHz 2.電漿功率:0~500W 3.使用氣體:氫氣,氧氣,矽甲烷
可移轉技術名稱(中) 電漿光譜檢測技術
可移轉技術名稱(英) Detecting technology for plasma spectroscopy
可應用範圍 顯示面板產業、太陽能產業、光學膜代工產業、晶圓代工產業之電漿製程設備
市場(產品/服務)潛力預估 目前業者包含設備與終端使用業者，所採用之電漿設備屬於一連續輸出高功率之系統，運作時對於高功率造成之硬體物件老化，將影響設備生產物品質，包含沈積薄膜之物性及電性品質、薄膜蝕刻深度、形貌、等等。因此若有一技術可以 預先在產程尚未結束前，即可有效預知設備現況並延伸至預測製程結果，將可有效節省製程時間及降低設備維護成本。
所需之主要軟硬體設備 電漿光譜分析儀(Optical Emission Spectroscopy; OES)
總聯絡窗口 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
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更新日期：108-03-18　/　維護單位：系統管理者
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