60周年
成果類別 科專研發
產出年度 106
計畫名稱 低溫透明導電薄膜製程設備開發
技術類別 生技製藥技術
搭配推廣專利
技術現況敘述 本技術採用反應式電漿蒸鍍核心概念,其技術議題包含:離子電漿產生器模組設計、靶材電磁場調控模組設計、線圈磁場模組設計等高難度技術項目,可有效縮短鍍膜製程時間、材料成本及能源損耗。
技術規格 (1)電磁場電流調控≦50A±5% (2)電磁場強度均勻性≧80% (3)靶材蒸鍍離化率≧80%
可移轉技術名稱(中) 高密度電漿輔助鍍膜技術
可移轉技術名稱(英) High Density Plasma-Assisted Coating Technology
可應用範圍 真空鍍膜產業
市場(產品/服務)潛力預估 本技術因應高轉換效率太陽能電池計畫而衍生,主要用來建置於生產透明導電膜的製程設備,每條太陽能電池生產線需要一台,預期每台售價約NTD800萬元。
所需之主要軟硬體設備 真空腔體、真空測試儀器、機構設計軟體、流場模擬軟體
總聯絡窗口 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail :judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期:108-03-18 / 維護單位:系統管理者
<