60周年
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成果類別 科專研發
產出年度 103
計畫名稱 濺鍍設備監控技術
技術類別
搭配推廣專利 可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法
技術現況敘述 本移轉技術主要提供一種應用於濺鍍設備之自動化監測預先濺鍍(pre-Sputter)時間方法，屬於鍍膜前製程改善，在濺鍍之前，由於金屬靶材存在有表面氧化的問題，為了獲得較佳的鍍膜品質或避免arcing ，會先做pre-sputter動作。目前得知pre-sputter時間預估，大多是採經驗法則，本技術藉由監測在DC-Power電力訊號來測量預先濺鍍時間(pre-sputter)，除了提供更準確預估預先時間參考值，以達到節能及消除靶材浪費之功效，同時也可掌握DC-Power電力系統是否有異常現象。
技術規格 電力監診模組，用以即時監測電力訊號及記錄DC-Power電力趨勢分布，以了解是否有異常現象及監測預先濺鍍(pre-Sputter)時間，一輔助驗證模組，利用OES光譜量測金屬成份訊號，用以驗證金屬氧化情況。
可移轉技術名稱(中) 設備監診之預濺鍍監測技術
可移轉技術名稱(英) Pre-Sputter Power Monitoring and Diagnosis Technology of Sputter equipment
可應用範圍 濺鍍機台設備、薄膜電漿製程、薄膜太陽能電池製造
市場(產品/服務)潛力預估 佳，協助國內鍍膜設備製造商增加設備可靠度，增加製程成膜品質。協助終端製造廠商掌握設備預先濺鍍製程實際狀況及設備異常回饋狀況，穩定各項連續製程參數。
所需之主要軟硬體設備 製程設備、工業電腦、通訊擷取模組、OES光譜儀
總聯絡窗口 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
架構圖

更新日期：108-03-18　/　維護單位：系統管理者
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