60周年
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成果類別 科專研發
產出年度 102
計畫名稱 高效率靶源模組開發
技術類別 生技製藥技術
搭配推廣專利
技術現況敘述 目前中心所發展之線型離子源技術應用於輔助真空鍍膜，對於國內真空濺鍍使用業者有助於提高鍍膜品質競爭優勢。
技術規格 可處理幅寬：300 mm Collimated Ion Source 放電電壓600～3000V 放電電流0.75A 線型離子束長度≧300 mm
可移轉技術名稱(中) 線型離子源技術
可移轉技術名稱(英) Linear Ion Source Technology
可應用範圍 軟性觸控顯示器 太陽光電 電子類被動元件
市場(產品/服務)潛力預估 模組產值每年約5千萬元以上
所需之主要軟硬體設備 高電壓產生模組 氣體引入模組 銣鐵錋磁石
總聯絡窗口 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
未命名

更新日期：108-03-18　/　維護單位：系統管理者
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