60周年
:::
成果類別 科專研發
產出年度 102
計畫名稱 分項主持人運用經費
技術類別
搭配推廣專利 可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法
技術現況敘述 本移轉技術為克服連續製程參數漂移之技術，藉由本技術可長時間穩定自動調整製程設備參數，確保電漿物種組合符達到製程要求。
技術規格 具有穩定連續製程參數漂移功率之電漿製程參數控制技術
可移轉技術名稱(中) 電漿製程狀態監控技術
可移轉技術名稱(英) Technology of plasma process control with optical emission spectroscopy
可應用範圍 薄膜太陽能電池製造、IC製造、薄膜電漿製程
市場(產品/服務)潛力預估 佳，協助國內鍍膜設備製造商增加設備可靠度，增加製程成膜品質。協助終端製造廠商掌握設備製程實際狀況，穩定各項連續製程參數。
所需之主要軟硬體設備 製程設備、工業電腦、光放射光譜儀(OES)
總聯絡窗口 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
OES_Control

更新日期：108-03-18　/　維護單位：系統管理者
<