60周年
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成果類別 科專研發
產出年度 101
計畫名稱 高效率靶源模組開發
技術類別 生技製藥技術
搭配推廣專利
技術現況敘述 目前中心所發展之柱狀靶源設計技術與國外大廠同步，故對於國內真空製造業者或設備使用端皆有助於提高競爭優勢。
技術規格 鍍膜速率>2μm/hr 靶材厚度6mm之柱狀靶材 靶材利用率>70% 靶源功率20W/cm2
可移轉技術名稱(中) 高效率柱狀靶源設計技術
可移轉技術名稱(英) The technology of high efficiency rotatable magnetron design
可應用範圍 軟性顯示器 太陽光電 電子類被動元件
市場(產品/服務)潛力預估 模組產值每年約5千萬元以上
所需之主要軟硬體設備 磁流體軸承 銣鐵錋磁石 馬達傳動組
總聯絡窗口 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
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更新日期：108-03-18　/　維護單位：系統管理者
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