60周年
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成果類別 科專研發
產出年度 101
計畫名稱 精密薄膜光學量測實驗室
技術類別 產品驗證
搭配推廣專利
技術現況敘述 本年度完成橢偏術應用於多層薄膜之膜厚計算所需的演算模型、軟體架構及使用者介面設計等項目.
技術規格 單波長:632.8 nm, 計算時間:<3 sec
可移轉技術名稱(中) 快速橢偏膜厚計算技術
可移轉技術名稱(英) Fast Calculation Technology of Thin Film Thickness by Ellipsometry
可應用範圍 精密薄膜量測
市場(產品/服務)潛力預估 促進國內更多業者投入橢偏術應用於薄膜性質量測產業
所需之主要軟硬體設備 光源產生器,訊號處理器
總聯絡窗口 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
快速橢偏膜厚計算技術

更新日期：108-03-18　/　維護單位：系統管理者
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