60周年
:::
成果類別 科專研發
產出年度 100
計畫名稱 分項主持人運用經費
技術類別 生技製藥技術
搭配推廣專利
技術現況敘述 本移轉技術為高效能鍍膜技術，藉由本技術可提昇產品鍍率，縮短製程時間。
技術規格 VHF-PECVD超高頻60MHz電漿輔助化學氣相沉積設備關鍵組件之設計製作技術。
可移轉技術名稱(中) 高鍍率太陽電池PECVD鍍膜設備腔體關鍵組件設
可移轉技術名稱(英) Technology of high efficient sputtering
可應用範圍 半導體設備 、 FPD設備 、 PV設備
市場(產品/服務)潛力預估 佳，可協助國內真空鍍膜設備製造商進行超高頻鍍設備開發或協助End User廠商進行現有真空鍍膜設備升級之技術移轉。
所需之主要軟硬體設備 鍍膜設備
總聯絡窗口 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
圖片1

更新日期：108-03-18　/　維護單位：系統管理者
<