60周年
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專利名稱

適用靜電吸盤之電引入裝置
年度 114
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1141001~1331128
專利證號 I900353
摘要 靜電吸盤已廣泛使用於半導體晶圓輸送、曝光、CVD、清洗、蝕刻及微細加工等製程應用上。靜電吸盤的陶瓷燒結體中埋設有靜電吸附電極，靜電吸盤製程架構中大電壓均是由外部引入至陶瓷中之電極，藉此來產生靜電吸附力。本專利是提供一種藉由彈簧結構頂針去接觸電極結構，並由金屬材料連接頂針，在金屬材料外部，有一層圓柱狀的絕緣材料。其中，頂針、金屬材料及絕緣材料均有螺紋設置，進而可降低該結構維護的難易度。
特色 1. 提升國內半導體設備產業對於靜電吸盤模組技術掌握能力
2. 應用於半導體設備產業，提升晶圓在移載或者製程中的吸附穩定性。
創造效益 1. 供電部件可以快速進行更換與維修。
2. 配合彈簧頂針結構，確保供電時接觸穩定性。
3. 減少靜電吸盤製作步驟，降低成本與製作困難。
市場資訊 靜電吸盤電引入模組技術上，國外知名大廠如：Lam、Applied、TEL等具有相關的設計能量，並且依不同的製程進而開發所需靜電吸盤模組。電引入架構中，多數則是採用固化成形、纜線焊接以及結構焊接等方式來完成電引入。
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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