60周年
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專利名稱

高純度鋁材的連續純化系統
年度 114
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1140221~1321115
專利證號 I873982
摘要 本專利是將一結晶裝置伸入裝有高溫鋁液之容器，藉由鋁湯與結晶裝置溫度差，造成偏析凝固現象於結晶裝置表面凝固獲得高純度鋁材；結晶裝置上高純鋁材，藉由脈衝電壓於鋁材與結晶器介面產生部分熔融狀態達到快速取料目的。連續反覆上述程序後，裝有高純鋁材容器，利用滑軌移出純化區域，進行細晶化程序，最後獲得所需高純度細晶化鋁材，整合連續式鋁材純化及細晶化系統，提升高純鋁材生產效率。
特色 國內高純度鋁需求量3,000公噸/年，以4N~5N產品(電容器、半導體等應用)為主，原料掌握於國外大廠，進口後再進行二次加工，無法自主國產恐有斷鏈風險；受限缺乏純化技術，廢鋁料多降階使用。
在市場影響方面，透過本專利所提出之定向凝固偏析純化機構，可使回收高純鋁材提高材料價值達六倍(212 USD/kg)，增加原料再生產值約3.6億(以1,200噸5N鋁材計算)，製成再生靶材衍生應用產值約5.1億。
創造效益 1. 同時配置多個容器，包括低溫(300~500oC)預熱容器以及高溫(650~750oC)純化容器。
2. 透過電弧將鋁加溫至熔融態，使收集容器不需長時間保持高溫，並能提升收集效率。
3. 高品質細晶鋁材應用於半導體靶材，減少加工道次，獲得晶粒尺寸<20μm，達到節能減碳目的。
市場資訊 在市場影響方面，透過本專利所提出之定向凝固偏析純化機構，可使回國內高純度鋁材需求量約33,000公噸，包含電纜/鋁箔30,000噸及靶材3,000噸。原料自國外進口後於國內進行二次加工；國內缺乏高純度鋁純化技術，故二次加工廢鋁回收多降階使用至工業用途，無法循環再生高純鋁原料。
國內光電與半導體用鋁靶原料多仰賴國外業者供應，材料自主性低，以液晶面板用高純度5N鋁靶為例，鑫科為國內少數可軋延量產業者，國內缺乏高純度鋁提純技術，廢鋁靶材回收後多以工業用途降階使用。於4N鋁材主要應用高潔淨鋁合金應用，包括電纜鋁合金、鋁質電容器所需電子鋁箔。
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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