60周年
:::
專利名稱

管件之鍍膜裝置
年度 113
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1131121~1321129
專利證號 I863729
摘要 本發明是關於一種多通道噴嘴式管件內外化學氣相沉積鍍膜裝置與方法。該裝置可連接低壓化學氣相鍍膜設備，實現管件內外表面的鍍膜。通過連接多通道管件，設定不同進氣流量、進氣口和出氣口，以鍍至高細長比（≧114）管件的內壁，達到多通道管件內外鍍膜的設定。本發明利用管件噴嘴裝置，提供管內流速均勻性，並使管件內壁薄膜的厚度均勻性提高。通過化學氣相沉積鍍膜技術，可以獲得緻密性優良的薄膜品質，進而提升細長彎管內壁的抗酸蝕性能，從而解決多通道高細長比管件使用壽命的問題。這項技術廣泛應用於半導體、相關治具、管件、閥體、航
特色 本專利提供了一種高效、精確和可靠的方法，用於在多通道噴嘴式管件內外進行化學氣相沉積鍍膜。透過這種技術，能夠為各種產業中需要管件內壁改質處理的應用提供優秀的解決方案，同時提升管件的耐用性和性能。並針對國內高端金屬元件沉積鍍膜系統之技術缺口進行補強，並建立相關金屬表面保護技術核心與製程參數，提供產業應用之依據，後續透過產學研整合，進行先導性研究與試製，進而促動業者投資與協助媒合產業，提前完善產業化布局規劃，協助業者可切入高端金屬元件保護層之國際供應鏈。
創造效益 本專利是關於一種多通道噴嘴式管件內外化學氣相沉積鍍膜裝置與方法。該裝置可連接低壓化學氣相鍍膜設備，實現管件內外表面的鍍膜。裝置連接多通道（四個進氣口及一個出氣口）管件，並使不同進氣口的氣體通入管件內部，同時通過噴嘴設置，可鍍膜到高細長比（≧114，細長比公式：管件長度/管件直徑）的管件內壁，使彎管內壁的流速均勻性得到提升，並保持彎管內壁厚度均勻性，其中有一多孔進氣裝置的設計。透過多孔進氣裝置，可以優化管內的流速均勻性，同時使得管件內壁薄膜的厚度均勻性得到提高。通過化學氣相沉積鍍膜技術，可以獲得品質優
市場資訊 管內鍍膜為現今工業上常用的加工方式，其主要目的為維持管道的完整，成型的鍍膜層有助於保護管內免受於腐蝕的破壞性影響，且鍍膜也被認為是當今世界工業最可靠的防腐蝕方法之一。管內鍍膜具備防鏽蝕、提升流體質量、降低清潔成本等優點，尤其在清潔管道方面，管內鍍膜能大幅降低管路維護清理的難度。然而管內鍍膜在技術上仍有一定的難度，不論是在形狀上亦或是在管路尺寸上，其過程皆需符合流體力學之現象。因此本專利之目標為透過計算流體力學建構在嚴苛環境有較良好之抗蝕鍍膜系統，製作可傳輸高濃度化學原料之細長管件。管?鍍膜技術在國內外市場應用廣泛，涵蓋諸多領域，包括抗腐蝕管件、半導體產業、石油和天然氣領域以及醫療診斷等。這一技術透過不銹鋼、金屬合金、玻璃、陶瓷等材料進行管內塗覆，有效地改善了材料性能，提升了其功能和耐用性。
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
<