60周年
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專利名稱

壓力腔水平保持裝置
年度 111
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1111201~1301128
專利證號 I785907
摘要 現今工業及民生需求針對使用真空鍍膜的產品日益增加，大量需精密遮罩協助鍍膜的微小圖案的使用，但對於微小圖案鍍膜的零件特殊處理工藝，卻產生另一項難題，微小圖案鍍膜零件若無透過精密定位平台及治具固定，將發生鍍膜圖案產生堆疊不完全現象，堆疊現象不完全會使被鍍物功能性無法有效產生應有性能，進而無法確實完成真空鍍膜處理程序，嚴重影響到產品之良率，但真空設備專用水平裝置無相關專利及產品供使用。故設計一款在真空環境中具可調整的水平/併保持水平恆定的裝置，
特色 1.提高需精準度膜處理產品良率。
2.目前市場並無功能相關產品販售。
3.開發模組化可當獨立商品出售。
4.提高國內真空設備業國際競爭力。
創造效益 1.不受腔體因抽真空後產生形變的裝置，而影響治具平台的水平。
2.真空環境內所需的機構少且維護容易。
3.確實控制空間內模組的相對位置距離。
市場資訊 現今各種三Ｃ產品走向輕薄化設計，零組件也隨之微型化，例如微小電阻的線路圖案精準鍍膜、透明導電膜鍍膜和5G天線圖案等，都是未來的精準鍍膜需求，單微小電阻其年產值都有222億台幣以上。
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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