60周年
:::
專利名稱

集光模組
年度 106
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1060511~1251002
專利證號 I583124
摘要 本專利提出一定置式偏射光準直化單元設計方法，採用非對稱複合拋物曲面(Asymmetrical compound parabolic curve, ACPC)將偏射光導引成一近似點光源光場分布，再結合下方自由曲面設計，將光線透過反射與折射交互搭配予以準直化。ACPC是以多邊型設計來獲得陣列化後最緻密排列，下方搭配自由曲面準直元件陣列，兩者可組裝成高填充率偏射光準直化模組。此模組可整合定置PV系統上方，以此來增加PV系統陽光偏射容忍角度(模組設計可允許偏射角度≧±60度)，也改善漫射日射收光量偏低的問題，提升系統偏射日照條件下的收光效率。
特色 本模組可整合定置PV系統上方，以此來增加PV系統陽光偏射容忍角度(模組設計可允許偏射角度≧±60度)，也改善漫射日射收光量偏低的問題，提升系統偏射日照條件下的收光效率，有機會取代追日模組安裝的必要性，預估可有效提升定置式PV系統日電量40%以上。
創造效益 對於一般建築常用的BIPV或定置式PV系統，太陽光的日照與季節偏射以及漫射日射情況會造成系統收光效率不佳，進而使系統發電效率下降。本專利提出一偏射光準直化單元與模組化設計方法，試想可安裝於定置PV系統上方，增加陽光偏射容忍角度，可改善漫射日射收光量偏低的問題，以及提升偏射日照條件下的收光效率，有機會取代單軸或雙軸追日模組安裝的必要性。
市場資訊 1. 未來新及再生能源發展太陽能發電技術為關鍵要角，因應石化能源逐年消耗與使用成本持續升高現況，國際間無不持續於能源領域投入發展新及再生能源系統技術。由ETP能源趨勢展望於2014年發佈之2DS hi-Ren情境顯示，長期預估2050年太陽能發電將占全球發電量27%。其中太陽光電占16%，太陽熱電亦將成長至11%，足可見太陽光能之利用將是未來新及再生能源持續受關注領域。
2. 根據TrendForce綠能事業處EnergyTrend的全球太陽能市場分析最新報告顯示全球整體需求量充沛，預計2016年全球太陽能需求量將達56GW。EPIA更預測到2019年間PV裝機率可達396~540萬千瓦(GW)。依據經濟部能源局實施「陽光百萬黃金屋頂」推動太陽光電普及化，預期到民國119年太陽光電發電設置容量目標達8,700MW。
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
<