60周年
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專利名稱

具抗反射導電膜之光電結構
年度 105
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1051111~1241123
專利證號 I557425
摘要 本專利之主要目的在提供一種具導電之抗反射結構。其包括一光電元件以及一抗反射結構。該抗反射結構由數個不同折射率之導電材料堆疊而成， 藉由階梯式折射率變化之材料可有效減少光電元件的出光或入射光的光損失，提升元件效能，同時又具有導電功能可減少製程複雜度，可廣泛應用於光電產業。
特色 本專利所提供之導電雙層薄膜建構之抗反射結構，除了結構簡單以外，亦具有導電之特性，以矽基板為例，可有效將反射率從30~40%降至5%以下，同時電阻率低於5×10-3 Ω-cm。此種具多功能之抗反射結構可簡化光電元件之製程步驟，降低製作成本。
創造效益 本專利提供一種具導電之抗反射薄膜結構，同時具備抗反射與導電功能，可解決電極與元件的連結問題，減少元件製程複雜度，降低成本。
市場資訊 目前還未量產或販售具導電及超低抗反射結構之元件或商品。
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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