60周年
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專利名稱

氣靜壓平台及其間隙調整方法
年度 107
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1070801~1241203
專利證號 I631289
摘要 本專利於氣靜壓運動平台上崁入一種可進行氣浮間隙調整機制的裝置，使其成為能調整氣浮間隙之精密運動平台。其構想係在氣靜壓平台內，崁入電磁鐵裝置，使氣靜壓平台可以在不改變供氣壓力以及軸承尺寸、特徵、樣式的情況下，透過電磁鐵的電流與磁場間的關係變化，增加其平台的性能表現與穩定性。
並利用導軌面微結構特徵(此特徵可做為類似光學尺的量測功能)，透過感測器傳輸得知平台目前的氣浮間隙，進而透過電磁鐵的電流大小調整平台的氣浮間隙。
特色 1. 具間隙可調整裝置之氣靜壓平台預期將可應用於直線、旋轉型的超精密定位平台中，這些產品為建構各產業領域超精密設備的基礎關鍵模組。
2. 預期此專利結合先前申請之氣靜壓專利，對於未來中心於靜壓技術領域的專利佈局與應用將有關鍵性的影響。
創造效益 1.在提升氣靜壓平台性能與追求穩定性的同時，可以降低氣靜壓平台生產製造的技術要求與成本，突破以往氣靜壓平台應用上面臨的限制瓶頸。
2.可在不改變供氣壓力以及軸承特徵、樣式的情況下，進行氣浮間隙的控制，保持氣浮間隙維持在最佳的工作範圍狀態下。
3.微結構特徵(具有類似光學尺的量測功能)，可透過感測器傳輸得知平台目前的氣浮間隙，進而調整平台的氣浮間隙到需求之高度。
4.可在不變更氣靜壓軸承相關參數設計下，提升氣靜壓平台性能表現與穩定性的維持。
市場資訊 1. 目前全球發展氣靜壓平台的公司主要集中於歐美國家，且為固定氣浮間隙之氣靜壓平台
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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