60周年
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專利名稱

輻射產生設備
年度 104
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1041001~1230610
專利證號 I503054
摘要 本專利為揭示一X光管靶材冷卻系統。此X光管靶材冷卻系統包含一多孔材料內側貼附於X光管球壁外側。此多孔材料具有高熱傳導係數且具有非常高的體積表面積比，可提供充分熱交換面積以將熱從靶材基座帶至冷卻流體，進而控制X光產生層之溫度
特色 目前國內正積極發展高階醫療影像設備，CT是其中主要發展標的，而X光管為其關鍵零組件，亦有廠商投入新式X光管研發，特別是穿透式X光管。目前穿透式X光管，由於穿透式X光管端窗厚度的限制，使得它的散熱效果下降，此外，亦難有充分的空間提供冷卻靶材用的系統目前由於穿透式X光管因能量使用率較佳，因此在同一輸入功率下，溫度較低。
創造效益 1. 本專利所提具多孔材料高效率冷卻系統，可降低靶材溫度，解決長久以來穿透式X光管靶材過熱問題，提高靶材使用壽命。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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