60周年
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專利名稱

光學量測系統及方法
年度 104
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1040711~1221208
專利證號 I491845
摘要 本發明提供一種可進行微小尺寸垂直度之量測方法。量測系統是由光學架設部分、影像擷取部分、以及數位影像處理部分所組成。
    將待測載具(微小工件)架設於光學量測系統之中，將一雷射經由空間濾波器去除不必要之雜訊，再經由一分光鏡，將光引進光學系統之中，將光束分別射在於試件參考面及待側面上，再由影像擷取單元擷取影像，於光路系統中加入補償片，使之產生光程差而造成干涉影像，比較加入補償片前後之影像，可進行待測物垂直度之量測。
特色 本光學量測系統可針對微小工件之垂直度，進多點之量測，取代現有之探針、量錶、直角規、…等接觸式量測方法，且量測時間快速，量測系統操作容易，大幅提升量測之效率。
創造效益 本發明應用於扣件產業、精微加工，3C產品、微小工件之垂直度量測等應用場合，因測量方法為非接觸式，不會對載具產生接觸量測誤差之影響，且不會因工件之尺寸太小，相關量測工具難以架設，而無法量測，對於量測之應用性將有很大的提昇。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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