60周年
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專利名稱

光學式膜厚量測方法
年度 104
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1041011~1230710
專利證號 I503519
摘要 光譜式反射儀(Reflectometer)可被應用在平面顯示器、薄膜太陽能電池...等各領域的膜厚量測系統，進行各類製程線上即時回饋控制。技術上重要膜層如:非晶矽、微晶矽與多晶矽將隨著晶粒變化，其產品亦將伴隨不同的光學常數與表面粗糙度，造成量測誤差。傳統反射儀計算膜厚時，使用固定式光學折射率搭配最小平方法進行迴歸分析。本計畫著眼於開發隨著樣品折射率與表面粗糙度可調變之演算法，藉以增進膜厚線上量測系統分析之準確性。
特色 傳統薄膜量測機台大抵僅具備單一膜厚量測功能，但隨著玻璃面板尺寸增加以及新世代製程調整，可幫助產線進行參數調整的複合量測功能機台日益重要。以非晶質矽薄膜電晶體陣列製程為例，其過程為成膜、圖案形成以及蝕刻等製程反覆操作。至於多晶質矽薄膜電晶體製程除上述製程外，需外加多晶質矽薄膜之膜質改善工程。例如:將非晶質矽膜多結晶化及雜質活化工程。複合功能折射率調變量測機台於上述過程扮演重要角色，原因在於新世代面板製程過程中，除得知原始折射率外，尚須判斷鍍膜後各膜層折射率變化；而各膜層光學折射率、結晶化與緻密程度
創造效益 傳統反射儀光學模型假設各層皆為理想光學膜層。意即各膜層皆為光學平滑(smooth)、平行(parallel)以及具等向性(isotropic)的平面。在理想膜層條件下，僅膜層厚度與光學折射率影響反射光強度。然而，大多數光學膜並非理想光學膜。真實狀況以非晶矽薄膜為例，樣品之光學性質對於沈積成長過程相當敏感。本專利使用雙層光學膜來近似鍍製表面，第一層運用塊材結構而第二層代表較薄之粗糙表面。各層之折射率對波長關係乃採用Bruggeman等效介質近似法。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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