60周年
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專利名稱

鍍膜設備
年度 104
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1040811~1221127
專利證號 I495748
摘要 利用固定座的單邊或兩邊傾斜設計，將靶源內所產生的冷凝水順利排出，以免產生電源短路造成靶源損毀。
特色 1.提高國產品自主性。
2.提供穩定之供貨源無停工待料之虞。
3.縮短設備交貨期限。
創造效益 一般申請皆落在靶源磁場設計及少部分的鍍膜遠近調整機構。
目前必須使用此零件之設備，皆為國外原型機台及未來將開發機台所需之零組件，故先完成專利佈局。
1.可在高濕度環境下使用。
2.完全自製縮短製造真空設備時程。
3.降低生產成本。
4.活動性及配合度靈活，可配合不同尺寸及環境需求而設計。
5.即時調整傾斜角度大小，該專利為未來提相關專利時所必要。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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