60周年
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專利名稱

電漿處理系統及其射頻阻抗匹配裝置
年度 104
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1040221~1211226
專利證號 I474368
摘要 本專利之主要目的在提供一種無電感式之阻抗匹配電路，特別是關於一種用於調整化學氣相沉積系統中電漿模組等效阻抗之裝置，其具有增加功率傳遞及節省製造成本等功效。
特色 本專利所揭示之標的物，主要用於電漿輔助化學氣相沈積系統(PECVD, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)中。以半導體產業中製程所使用之PECVD設備為例，ITIS表示去年全球半導體設備產值約341.2億美元，佔整體半導體產值比重也將下滑至13%，低於過去20年的平均值17%，除部份設備生產力提升外，半導體製造廠對設備資本支出趨於保守也是影響主因之一。至於日本市場，去年半導體設備產值衰退幅度相對小於台灣市場，仍可望維持有78.8億美元規模，應可超越台灣市場，重登全球最大半導體設備市場領導地位。
創造效益 1. 採用無電感式之匹配電路，可減少匹配電路中之功率消耗。
2. 採用本發明所揭示之匹配電路，可增加匹配電路之可匹配範圍及減少達成匹配所需時間。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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