60周年
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專利名稱

可微調整製程參數之濺鍍製程控制系統及其方法
年度 104
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1040811~1220714
專利證號 I495751
摘要 本專利之主要目的在提供一種具有控制參數自動微調的控制方法，特別是關於一種用於調整濺鍍製程系統中製程參數的策略，其具有增加電漿穩定度與節省製造成本等功效。
特色 可加快控制系統之反應時間，精簡資料庫硬體之建置成本。
創造效益 以類神經控制法則取代傳統資料庫之記憶功能，在沒有資料庫之情況下，依然可依歷史資料進行自動參數微調。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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