60周年
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專利名稱

一種化學氣相沉積設備及其氣體擴散裝置
年度 103
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1030401~1201123
專利證號 I432602
摘要 一種化學氣相沉積設備及其氣體擴散裝置，該化學氣相沉積設備係於內部形成一反應腔室，且該化學氣相沉積設備設有連通該反應腔室的一製程氣體通入端及一排氣端，該反應腔室內設有一氣體擴散裝置，該氣體擴散裝置係包含：一基板，係包含一第一分區及一第二分區，該第一分區用以對位於一化學氣相沉積設備之製程氣體通入端，該第二分區鄰接該第一分區之外周邊；及數氣體通孔，係包含貫穿該基板的數第一通孔及數第二通孔，該數第一通孔及數第二通孔分別佈置在該基板之第一分區及第二分區，且該第二通孔之最小孔徑大於該第一通孔之最小孔徑。
特色 本發明之化學氣相沉積設備及其氣體擴散裝置，係於該化學氣相沉積氣體擴散裝置上劃分數區域及各分區分別設置特定孔徑之氣孔，且該些氣孔之孔徑呈逐區增擴，以提升氣體均勻散佈於化學氣相沉積反應腔室中之程度之功效。
本發明之化學氣相沉積設備及其氣體擴散裝置，該化學氣相沉積氣體擴散裝置係藉由該等氣體通孔之孔徑逐區擴大，減少孔洞穿鑿數量，簡化鑿孔施工難度，降低製造成本，增加氣體分散效能之功效。
創造效益 本發明係關於一種化學氣相沉積設備及其氣體擴散裝置，尤其是一種可提供氣體均勻分佈在化學氣相沉積反應腔室中之化學氣相沉積設備及其氣體擴散裝置。
市場資訊 氣體擴散裝置應用極廣泛，包含AMOLED蒸鍍源的上蓋擴散裝置、 製作LED重要製程設備MOCVD設備內的特氣擴散裝置、製作太陽電池的鍍膜氣體擴散上電極板、製作晶圓的真空鍍膜之氣體擴散裝置等，皆有需求。但國內目前少數廠商在進行氣體擴散裝置之加工製造，而且多半是替國外設備大廠，如諾發公司(Novellus)、美商應材(AMAT)等進行代工，因為氣體擴散裝置的國外設備大廠有許多專利佈局，目前國內廠商若逆向製作後將遭遇一些量產時侵犯專利及製程氣流設計等問題。

若能突破國外設備大廠的專利限制，國內設備製造業者或加工業者就有機會推進終端商設備的市場，並能提供效益更佳、成本更平價的氣體擴散裝置模組。
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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