60周年
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專利名稱

微孔拋光方法及微孔拋光裝置
年度 101
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1010511~1171103
專利證號 I363671
摘要 本專利係利用動能傳遞機制，此機制可以使混合物質液體進行螺旋旋轉（旋轉與前進或往複）進行機械拋光之方法。其包含開放式的螺旋噴磨及封閉式的蝸旋拋磨。
特色 1.提升國內在於微小光電零組件之模具製作接單能力。
2.提升精微產品之拋光能力。
3.國產化精微拋光設備之能量建立。
創造效益 1.本專利可以針對精微結構做開放型及封閉型之拋光（曲面、平面、直孔、錐孔等等）。可應用之範圍相當的廣泛。
2.利用特殊的外能量的施加，得以針對陣列型微特殊之拋光。更可達而匹量式的拋光目的，且非限制於軸對之元件。
3.由於拋光之機構簡單，設備化之可行性相當高，且具有達到具光學等級表面品質之優點。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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