60周年
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專利名稱

應用於面內位移之光學量測裝置
年度 97
狀態 獲證維護中
獲證編號 303707
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 971201~1151210
專利證號 I303707
摘要 本發明提供一種可用於受熱或其他外力影響，量測產品產生之面內變形。量測系統是由光學架設部分、影像擷取部分、以及數位影像處理部分所組成。
其光學之量測方法為將一雷射經由一物鏡將之發散，再經由ㄧ反射鏡，將光引進光學系統之中，再由ㄧ分光鏡將之分成兩道，分別射進一反射鏡，再各自反射至測試物件上，並在試件上因漫射而形成光斑並發生干涉，經由CCD擷取其干涉影像，利用數位影像處理技術，將變形前變形後之影像做即時之處理，即可得清晰之干涉影像，可由干涉條紋之分佈計算試件之面內位移量。
特色 1.對於不適宜碰觸試件表面之情況，可採取非接觸式之光學量測方法。
2.可即時得全場之面內位移。
3.可攜帶，架設容易。
4.光學量測方法可針對各種幾何外型與尺寸之待測元件，搭配不同倍數之光學鏡頭，以獲得較佳之量   測結果。
5.光學量測方法由於其非接觸性，可針對各種幾何外型尺寸與材料特性之待測元件進行量測，只需試件表面為可反射性，即可進行量測。
6.光學量測之精度在未經數位影像處理前為1/4波長，達次微米之尺度。
7.利用數位影像處理技術，可大幅降低數位光斑所造成之雜訊，獲得品質較佳之干涉影像。
創造效益 本光學量測系統可作為一獨立量測模組，可攜帶於所需量測之場合，針對不方便直接接觸之元件進行量測，待測物無須從原先已安置好之場合（如機台或車輛上）拆卸下來，可節省拆裝時間及保持試件之完整性，大幅提升量測之效率。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：106-02-15　/　維護單位：系統管理者
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