60周年
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專利名稱

化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置
讓與公告年度 114
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1051011~1241115
專利證號 I553145
摘要 本專利是藉由在可連續生產的化學氣相沉積(CVD)(包括捲對捲及連續式)設備上，設計安裝一種藉由溫度控制的防護裝置，此防護裝置可以控制鍍膜材料的鍍製區域。例如工件傳輸模組的防鍍、腔體之間的隔離。化學氣相沉積時是以氣體在工件上沉積，因此工件傳輸模組會因被鍍上鍍膜而影響功能，鍍膜氣體也會擴散至隔壁腔體而污染。
聚對二甲苯鍍膜在沉積時對溫度很敏感，當物件表面溫度高時即不會沉積鍍膜。本專利是一種可調整溫度的防護裝置，安裝在需要防鍍的位置，例如工件傳輸模組的外部、腔體與腔體之間的通道。
特色 目前市場上仍無用於連續生產的聚對二甲苯設備。已有廠商針對防水、防蝕及離型層的應用與金屬中心洽談設備開發事宜，未來在產業應用有很大潛力。本專利的設計可廣泛應用於各式聚對二甲苯鍍膜設備，對於鍍膜設備是一個重要的里程碑。
創造效益 此防護裝置可以控制鍍膜材料的鍍製區域。例如工件傳輸模組的防鍍、腔體之間的隔離。
市場資訊 因為聚對二甲苯的性能廣泛，國外早已積極投入在生醫、國防領域的應用開發，國內在電子光電領域的發展尚在萌芽。目前已有以批次式鍍製聚對二甲苯鍍膜的生產技術，但是目前市場上仍無用於連續生產的聚對二甲苯設備。
為了提高產能及降低生產成本，工業生產時會盡量以連續式的生產方法。本專利的設計可廣泛應用於對溫度敏感的鍍膜材料，對於聚對二甲苯專用的連續式生產設備是一個重要的里程碑。
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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