60周年
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專利名稱

高均勻化學氣相沉積鍍膜連續鍍製裝置
讓與公告年度 114
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1050527~1240326
專利證號 I534292
摘要 本專利是藉由捲對捲(Roll-to-roll)的化學氣相沉積(CVD)設備在撓性捲式基材(金屬、紡織品、不織布、高分子(PET或PI等)等捲式材料)上製作聚對二甲苯膜，可以使得整捲的撓性捲式基材放入鍍膜設備中，且於鍍完聚對二甲苯膜後還能以整捲的型態取出。專利內容包括設備設計及以此設備在撓性基材上鍍製聚對二甲苯膜的方法。本專利亦包括聚對二甲苯的防鍍設計及冷凝裝置。
特色 目前聚對二甲苯以批次式生產的技術已相當普遍，為了提高產能及降低生產成本，工業生產時，有撓性的捲式材料會盡量使用roll-to-roll的生產方法，但是市場上仍無以roll-to-roll鍍製的聚對二甲苯設備與方法。本專利的設計可廣泛應用於窄幅寬至大幅寬(155 cm以上)的捲式材料，聚對二甲苯專用捲式CVD設備是一個重要的里程碑。鍍製聚對二甲苯時，因為原料是氣體，聚對二甲苯有無孔不入的特色，如何讓不需鍍的位置不會鍍到且能讓設備長時間運作，是未來中長期計畫開發捲式CVD設備的關鍵技術。
創造效益 為了提高產能及降低生產成本，工業生產時，有撓性的捲式材料會盡量使用roll-to-roll的生產方法，但是市場上仍無以捲對捲(Roll-to-roll)的化學氣相沉積(CVD)設備在撓性捲式基材(金屬、紡織品、不織布、高分子(PET或PI等)等捲式材料)上製作聚對二甲苯膜的設備與方法。本專利首先提出設備的概念設計與製程方法，未來再依據研發的進展，針對各細部模組做更精細的設計，以建立完整的專利佈局。鍍製聚對二甲苯時，因為原料是氣體，有無孔不入的特性，如何讓不需鍍的位置不會鍍到且能讓設備長時間運作，是本專利的特色與優點。
市場資訊 因為聚對二甲苯的廣泛性能，業界早已開始進行電子、光電領域的應用開發，目前聚對二甲苯以批次式生產的技術已相當普遍。但是目前市場上仍無以roll-to-roll鍍製的聚對二甲苯設備與方法。
為了提高產能及降低生產成本，工業生產時，有撓性的捲式材料會盡量使用roll-to-roll的生產方法。本專利的設計可廣泛應用於窄幅寬至大幅寬(155 cm以上)的捲式材料，聚對二甲苯專用捲式CVD設備是一個重要的里程碑。
鍍製聚對二甲苯時，因為原料是氣體，聚對二甲苯有無孔不入的特色，如何讓不需鍍的位置不會鍍到且能讓設備長時間運作，是未來中長期計畫開發捲式CVD設備的關鍵技術。本專利目的是藉由捲對捲(Roll-to-roll)設備在撓性基材(金屬、紡織品、不織布、高分子(PET或PI等)等捲式材料)上製作聚對二甲苯膜。
因為聚對二甲苯鍍膜具有表面無針孔，能塗佈到各種形狀的表面(包含尖銳的稜邊、隙縫 )，具有防水、防塵、防濕氣等特性。可精確控制膜厚(0.05~100μm)，且厚度均勻。鍍膜透明、無色。優越的絕緣性能，是理想的電子元件絕緣解決方案(Dielectric Strength > 5000 V/mil)。可抗酸鹼腐蝕，在普通的溶劑中不會被溶解。安全、無毒物反應。具有低靜態和動態摩擦係數，薄膜具有乾燥、細薄、光滑等的特性。常溫下加工，不需烘烤，具快速，簡易的加工特性。
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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