60周年
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專利名稱

具自轉及公轉複合式真空濺鍍設備
讓與公告年度 114
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華人民共和國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1040520~1201229
專利證號 ZL201110451209.6
摘要 本發明係涉及一種用於鍍膜的具自轉及公轉複合式真空濺鍍設備，其係包含有一腔體、一滾筒、複數治具、至少一靶台及一動力裝置。本發明使用時，藉由使各治具在環繞靶台的靶源公轉時，亦同時自轉，因此治具上的待鍍物，其每一面皆可輪流朝向靶台的靶源，進而使每一面皆可輪流接觸到離子濃度較高之處，以使各面的鍍膜厚度更為均勻。本發明藉此達到可使待鍍物的各面均勻鍍膜的目的。
特色 本發明藉此達到使待鍍物的各面均勻鍍膜的目的。並具有以下優點：一，可廣泛應用，幾乎任何材料均可鍍上鍍膜；二，無汙染；三，附著性良好。
創造效益 本發明係涉及一種用於鍍膜的工具，尤指一種具自轉及公轉複合式真空濺鍍設備。優點在於，藉由使各治具在環繞靶台的靶源公轉時，亦同時自轉，因此治具上的待鍍物，其每一面皆可輪流朝向靶源，進而使每一面皆可輪流接觸到離子濃度較高之處，以使各面的鍍膜厚度更為均勻。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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