60周年
:::
專利名稱

多波長偏光全像量測系統及測量方法
讓與公告年度 113
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1020421~1181230
專利證號 I393871
摘要 本專利提出之多波長偏光數位全像顯微量測技術，若搭配適當物鏡DHM光學系統縱向解析度可達10nm，而可量測最大階高差為19.6m。本技術除能彌補傳統數位全像顯微術缺陷，更兼具其即時量測特性。
特色 在2004?，我國光學檢測設備中，光電和半導體市場合計約佔整體光學檢測設備市場之80%。我國半導體之光學檢測設備市場值約為新台幣138億元，而光電業（FPD）之光學檢測設備市場值約為新台幣128.3億元。不過，以國內具有AOI設備製造生產能?廠商於2004?貢獻之總產值?到40億元台幣，關鍵零組件約有90%仍需進口。此外，值得一提的是2005年我國由韓國進口設備超過新台幣20憶，佔總市場6.4%。由以上數據顯示我國於自動光學檢測技術缺乏核心量能，各檢測設備之關鍵技術及零組件目前均仰賴進口，急待政府大力扶植本土檢測技術。
創造效益 一、不同於相位移法，DHM允許單次取像而不需推動PZT進行多次取像。二、DHM不需要取得樣品焦平面影像，因其可藉著數值演算法將樣品光波前還原取得物體3D形貌。三、在使用高倍率物鏡情形下，DHM可提供繞射極限等級光學橫向解析度，而縱向方面可克服高NA值顯微物鏡短景深之限制，延伸取像景深範圍。因此，發展DHM技術有機會開發出對震動不敏感之即時(real-time)線上3D形貌檢測技術。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
<