60周年
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專利名稱

真空連續式載台傳輸偏壓裝置
讓與公告年度 113
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1020411~1171229
專利證號 I393162
摘要 本發明之真空連續式載台傳輸偏壓裝置包括：一基座、一接觸單元及一電引入模組。該基座電性絕緣地固設於一真空腔體中。該接觸單元固設於該基座，用以電性接觸該真空腔體中之一承載單元。該電引入模組電性絕緣地穿設於該真空腔體，用以將一偏壓傳導至該接觸單元。該偏壓可由大氣環境下傳輸至真空環境下之該承載單元，並有效維持該真空腔體之真空度。並且，該接觸單元能持續地電性接觸該承載單元，以將偏壓持續穩定地傳導至該承載單元。藉此，利用本發明之該真空連續式載台傳輸偏壓裝置可提升鍍膜之均勻性、緻密性及附著性。
特色 於連續式設備中導入偏壓機構之設計，將有助於提升所製作鍍膜之特性，因此可以有效擴展連續式設備之製程應用領域。
創造效益 1.架構簡單可持續穩定性的施加偏壓。
2.增加鍍膜之附著性及緻密性。
3.提升鍍膜之機械特性。
4.增進鍍膜之結晶性。
市場資訊 真空連續式窄載台傳輸偏壓機構每年約50台需求
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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