60周年
:::
專利名稱

無光罩式曝光系統
讓與公告年度 113
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1020521~1171202
專利證號 I396947
摘要 本發明係關於一種無光罩式曝光系統，其包括一發光源、一第一準直透鏡、一第一反射鏡、一第二反射鏡、一圖案產生器、一投射透鏡、一第一雜散光抑斂器、一基板、一平台及一控制裝置。由於該第一反射鏡及該第二反射鏡之配置，使得該發光源所發出之該光束之光路徑得以延長，因此，該發光源之位置可以設置於遠離該基板，因而該發光源所發出之光線不會因為散射作用而直接影響該基板上之該光阻層。因此，該光阻層所曝出之圖案之圖形會較均勻，可以降低產品不良率。
特色 1、可取代微影製程中之傳統式光罩曝光技術，並提升產品的生產效能。
2、不在需要昂貴的光罩系統，降低因不同電極圖案之光罩的實際製作成本與時間。
3、可應用在新興軟性電子產業上，其新市場開拓潛力十足。
創造效益 (1) 本專利以無光罩曝光取代現行之光罩曝光做法，具備彈性(可利用電腦可程式控制設計電極圖案直接投射)、快速與降低成本(節省光罩製作時間與費用)等優點。
(2) 在曝光製程中，電極圖案會因光源投射路徑不均勻而造成幾何尺寸失真，為了達到圖案形貌符合實際製程需求，故結合光源均勻投射設計技術，將會是提升基材成品良率之重要因素。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
<