60周年
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專利名稱

放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導引眼模裝置
讓與公告年度 112
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華人民共和國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1000720~1171209
專利證號 ZL200810185135.4
摘要 本專利針對細孔電極導引機制提出密閉空間概念與方法，此機制目的在於改善細孔加工初期電極偏擺與翹曲，結合固定電極與匯集加工液裝置，並對此裝置提出製程方法，再搭配加工液吸取模式，以達到細孔加工快速、穩定需求。
特色 1.可提升細孔之加工精度與效率，以生產高精度精微零件與產品，並提高附加價值。
2.以精密機械產業發展來說，已符合產業界應用需求，亦能提升國內精密微孔加工能力。
3.利用此細孔放電導引裝置，可搭配電極挾持機構，達到國產化精微孔加工設備之能量建立。
創造效益 1.針對細孔加工初期可避免放電加工液經由中空電極噴出時，水注衝擊工件表面產生紊流，造成電極搖晃，進而增加放電穩定性與精度。
2.藉由密閉空間填充加工液，促使電極直接經導引孔浸入加工液，解決一般微細電極由空氣介質進入水介質時所造成的翹曲變形。
3.密閉空間裝置(面罩)為一彈性體，可藉變形來調節空間內壓力。
4.此密閉空間導入加工液噴出與吸取機制，可以輔助加工屑排除，以提升加工效率。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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