60周年
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專利名稱

真空滾鍍機及用於真空滾鍍機之蒸鍍裝置
讓與公告年度 113
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1020701~1170901
專利證號 I400344
摘要 一種真空滾鍍機包含一具有蒸鍍空間的蒸鍍艙、一可產生電弧的引弧器，及一設於該蒸鍍艙的蒸鍍裝置，該蒸鍍裝置包括一容置於該蒸鍍空間中的腔體座、一概呈平板狀且鑲嵌於該腔體座上的靶體，該腔體座界定有一呈常壓狀態的大氣空間；該靶體具有一突露於該蒸鍍空間中並供一靶材覆設的陰極部，及一位於該大氣空間中的陽極部；藉由將該平板狀的靶體鑲嵌於該腔體座上，不僅提高覆設於該陰極部之靶材的面積來擴大蒸鍍範圍，更可免除多弧式靶源的設計，簡化後續拆裝與保養上的問題。
特色 滾鍍機可使用筒進筒出，不需製作載台及治具，因此不需裝料及卸料，每爐次產量較批次式增加數倍，只需一人操作可節省時間及人力成本。
創造效益 1.本專利提出矩形靶源之設計，將多個多弧式靶源涵蓋的鍍膜範圍，由一個矩形靶源取代，因此可將數個多弧靶源所需之機構整併為一組，機構設計與施工可以簡易化。
2.磁控裝置可做磁場範圍調整，包含磁極至靶材表面距離調整、磁極涵蓋面積調整。
3.深入腔體的靶源背部空間採密封方式，與真空室隔絕，如此即使靶原背部之冷卻水路洩漏，不致影響真空度，此外有助於縮小腔體體積，縮短真空抽氣時間
4.靶源固定座配置冷卻水循環系統，陽極遮罩可充分冷卻，有利於製程長時間操作。
5.引弧器採連桿方式傳動，安裝位置較具彈性。
市場資訊 電弧蒸發源國內外每年需求量有不斷增加的趨勢
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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