60周年
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專利名稱

雜散光抑斂器
讓與公告年度 113
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 981121~1151227
專利證號 I317432
摘要 本技術以一共焦量測系統做為實驗之測試平台，系統分別由光路量測模組及定位控制模組兩大主要設計構成，並結合模擬雜散光追跡及分析，以光線追跡的方式尋找出系統雜散光的來源，再配合客製化及最佳化之低通濾波器光學元件設計，針對元件其整體幾何參數模組進行分析，包括圓筒內外徑及長度、內壁面的幾何形狀、表面結構處理方式。並研製完成此低通濾波器以架設至共焦量測系統內，以利雜散光在圓筒內壁面產生數次的折射與反射，進而衰減雜散光的能量，及驗證系統影像對比度之提升，進而有效改善精微量測系統之精確度。
特色 1.本系統結合模擬雜散光追跡及分析、設計低通濾波器光學元件核心技術，針對共焦量測系統所要的成像品質需求，以光學元件結構設計方法提供系統獲得高影像品質。2.模擬分析來設計低通濾波器光學元件之整體幾何參數模組，以利系統內之雜散光在內壁面產生數次的折射與反射，進而衰減雜散光的能量，提升光學系統效能。3.系統利用雜散光追跡及分析以光線追跡方式，產生數百萬條模擬光線，以尋找系統雜散光的光源。4.本共焦量測系統導入低通濾波器光學元件設計，以助於系統影像對比度之提升。5.本系統光路模組具有高量測精度,以精微幾何形貌開發
創造效益 1.可大幅提升待測物三維形貌量測精度，以提升應用市場面之效能。
2.建立高效能之量測關鍵模組技術，以簡化系統量測程序，強化國際市場之競爭力。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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