60周年
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專利名稱

應用於面外位移之光學量測裝置及其量測方法
讓與公告年度 110
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 970111~1151018
專利證號 I292471
摘要 一種應用於面外位移之光學量測裝置及其量測方法，包含一形成有一透光窗的殼體、一設置在該殼體上並與該透光窗相對的擷取單元、一處理單元，以及依序間隔排列在該殼體內的一光線發射器、一擴散透鏡、一分光透鏡與一平面鏡，該擷取單元並具有一影像擷取器，及一光學鏡頭，該處理單元是與該影像擷取器電連接，該擴散透鏡可使光線擴散至該分光透鏡上，該分光透鏡是介於該透光窗與擷取單元之間，並具有一分光面，使光線會有一部分被該分光面反射，另一部分的光線會透射出該分光透鏡，藉此提供全場之面外位移量測，方便攜帶與容易架設。
特色 1.次微米的量測精度 (0.15μm)
2.非接觸式之量測，避免刮傷或移動待測物之問題
3.非單點或線的資料，可做全場量測及分析
4.可攜帶式，不必局限於實驗室中量測
5.使用之數位影像處理技術，可有效降低環境所造成之影響，增加影像之能見度(visibility)
創造效益 光學量測技術雖是一項發展成熟之技術，但能攜帶至現場量測使用的，大多為單點式之光學系統，鮮1.少有能做全場量測的光學量測系統。
2.光學量測之極限為使用光源之1/4波長，已可符合大多數之量測所需，若有特殊需求，可導入相位移法 (phase shifting)，量測精度可再提升10倍，系統之可擴充性大。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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