60周年
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專利名稱

以複合式潔淨基板的表面污染物的方法
讓與公告年度 113
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華人民共和國
專利權人 金屬中心
專利起訖 991222~1150531
專利證號 ZL200610083295.9
摘要 本發明係一種以複合式潔淨基板之表面污染物之方法，其包含提供一基板步驟、提供一電漿供應單元步驟、提供一二氧化碳雪花供應單元步驟、進行電漿噴洗基板作業步驟及進行電漿及二氧化碳雪花噴洗基板作業步驟，藉由本發明之實施運用，係不需耗費大量資源及能源，尤其是水資源，且更不會造成環保問題，並能有效清除各種有機污染物與微粒，藉以提升基板表面之潔淨效果。
特色 本專利係結合大氣電漿之有機污染物去除能力，以及二氧化碳雪花之微粒去除能力，應用在如FPD等硬式或軟式基板之乾式清洗，具有以下優點：
?適合大尺寸平板工件之連續式清洗。
?二氧化碳可同時作為大氣電漿之解離氣體及二氧化碳雪花產生源
?在常壓下即可操作，不需真空腔體，設備成本低。
創造效益 1.應用在FPD等硬式或軟式基板之乾式清洗，取代傳統濕式製程，具有省水、省電、環保、無污染、省空間、降低設備成本等優點。
2.包括素玻璃基板在ITO濺鍍前、後以及光阻剝離後之清洗，PI膜配向前、後之清洗等，均可應用本專利技術。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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