60周年
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專利名稱

可調變光源圖像的共焦式顯微成像系統
讓與公告年度 113
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 960421~1141221
專利證號 I279580
摘要 一種可調變光源圖像的共焦式顯微成像系統，包含一可程式化控制輸出之光的圖樣的光源模組、一使通過的光成預定波長之偏極光的濾波偏振轉換裝置、一使通過的偏極光之電場方向與相位改變並朝預定方向行進的偏振分光裝置、一放置並帶動待測物位移的壓電平台、一將通過偏振分光裝置的偏極光以面的形式全域聚焦至待測物的一待測面的第一透鏡組，及一將自待測面反射並通過偏振分光裝置後行進之偏極光建立為放大影像的數位式成像裝置，本系統主要藉由光源模組產生的系列圖樣的光與壓電平台的縱向移動，而可正確、快速地建立待測物的放大立體影像。
特色 1.採用調變數位式微鏡片可控制光點之大小、亮度及圖樣(如圖2、圖3)分布，以適合不同條件量測之要求。
2.本系統設計使偏光轉換器將未極化光轉變成同狀態之偏極化光，以減少光線在光路中損失能量，有效的提升系統之光亮度。
3.透過色輪與濾光鏡之光路搭配，具有抑制雜散光功能，且有效調變成系統所需之最佳化光波長。
4.以微光機電元件達成多光點平面投射及光點圖樣XY掃瞄，速度快、彈性大及成本低。
5.本系統之光路模組具有高量測精度，以進行精微幾何形貌量測開發。
創造效益 (對相關技術或市場影響，例如：降低不良率、提昇原材料使用率、降低設備投資成本、節省時間或人力成本、可替代其他技術、提高產品附加價值、提昇市場佔有率、開拓新的應用市場)
1.可大幅提升待測物三維形貌量測精度，使得此量測技術之應用能夠切入奈米級量測之領域，以提升應用市場面之效能。
2.建立高效能之量測關鍵模組技術，以縮短與先進國家廠商之技術差距，強化國際市場之競爭力。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
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