60周年
:::
專利名稱

雙層板對位運動控制系統之對位標記設計及其影像處理方法
讓與公告年度 113
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 961011~1141206
專利證號 I288365
摘要 本發明係有關於雙層板對位之設計及方法，是屬於一種對位標記的設計並發展與之相關之影像處理方法，以達到應用此技術之雙層板快速且精密對位之目的。此發明主要分別在各層板的對應兩側的同一位置設計兩組對位標記，當在雙層板完成預定位後，透過兩具攝影機呈現兩組無重疊的上下標記之複合影像時，再配合專為此對位標記所設計之影像處理方法，藉以獲得上下各板對位標記之精確中心位置，然後經由幾何空間運算及影像伺服閉迴路控制，達到雙層板精密對位之目的。
特色 1.標記設計簡潔、製作容易
2.所設計之標記可避免雙十字標記之直線邊緣及干擾等問題
3.所設計之影像處理方法可處理任何形狀之對稱型對位標記
4.所設計之影像處理方法可將影像中之對位孔及對位標記分開處理，並以次像素（小數點以下2位）之精度得到其幾何中心，符合雙層板高精密對位之需求
5.所設計之影像處理方法之影像處理時間約只須常用的-「樣板比對法」的1/10，可有效提高對位速度
創造效益 典型之雙層板對位之技術應用為玻璃光罩精密對位，使用的範圍甚廣泛，如半導體業、平面顯示器業、印刷電路板業..等。我國為降低關鍵產業之製造成本、提高國際競爭力，近年大力提倡設備國產化，光罩精密對位為各類曝光機之關鍵技術，此技術的導入有助於本土化曝光機之開發，預估所開發出機台的售價將會維持在歐美日等先進國家相似品級的50﹪以下，不論是內需或甚至外銷販售皆有甚高之競爭優勢及經濟效益。
市場資訊
聯絡人 金屬工業研究發展中心 羅政副組長 
Tel: 07-3513121轉2366, Fax: 07-3534062
E-mail ：judylo@mail.mirdc.org.tw
更新日期：112-08-04　/　維護單位：系統管理者
<