60周年
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專利名稱

真空鍍膜系統之鍍膜方法及鍍膜裝置
年度 103
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華民國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1030621~1201114
專利證號 I441935
摘要 一種真空鍍膜系統之鍍膜方法，其係包含提供一鍍膜裝置，該鍍膜裝置係包含一第一旋轉承載座、一第二旋轉承載座、一第一靶材及一第二靶材，該第一旋轉承載座係具有一第一轉速，該第二旋轉承載座係設置於該第一旋轉承載座且具有一第二轉速，該第一靶材係設置於該第一旋轉承載座且被該第一旋轉承載座帶動旋轉，該第一靶材係具有一第一容室，該第二靶材係設置於該第二旋轉承載座且位於該第一靶材之該第一容室，該第二靶材係被該第二旋轉承載座帶動旋轉；接著，提供一靶源系統，其係對該第一靶材施予一第一偏壓，該靶源系統係對該第二靶材施予一第二偏壓。本發明藉由該第一旋轉承載座以第一轉速帶動該第一靶材旋轉，該第二旋轉承載座以第二轉速帶動該第二靶材旋轉，能使靶材濺鍍之粒子均勻地附著於一待加工件上，有效提升該第一靶材及該第二靶材之鍍膜效率。
特色 有效提升鍍膜效率。
創造效益 本發明係有關於一種鍍膜方法及鍍膜裝置，特別係有關於一種有效提升靶材鍍膜效率之真空鍍膜系統之鍍膜方法及鍍膜裝置。
市場資訊 本技術可用於真空鍍膜相關領域，降低設備投資成本，並且提昇原材料使用率，並有機會替代現有過濾系統。
聯絡人 黃偉咸 電話 07-3513121分機 2365 
E-mail：vincent@mail.mirdc.org.tw
維護單位：系統管理者
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