60周年
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專利名稱

類鑽碳膜及其製作方法
年度 103
狀態 獲證維護中
獲證編號
類別 發明
申請國家 中華人民共和國
專利權人 金屬中心
專利起訖 1030604~1191221
專利證號 ZL201010600156.5
摘要 一種類鑽碳膜，係包含：一類鑽碳附著層設於一基材及一類鑽碳強化層設於該類鑽碳附著層之表面；其中，該類鑽碳附著層之石墨結構所佔之比例係高於該類鑽碳強化層之石墨結構所佔之比例。該類鑽碳膜之製作方法係包含：將一基板置於一反應腔體中；將一含碳氣體通入該反應腔體中，並以一離子源提供該含碳氣體701~3000eV之解離能量，使該含碳氣體於該基板之表面沈積形成一類鑽碳附著層；以該離子源提供該含碳氣體100~700eV之解離能量，使該含碳氣體於該類鑽碳附著層沈積形成一類鑽碳強化層。
特色 1.提供一種類鑽碳膜，不需摻雜或中介層等方式便可提升類鑽碳膜之附著性為目的。
2.提供一種類鑽碳膜之製作方法，透過以高能量離子源提供含碳氣體高解離能量，而形成高附著性及高硬度之類鑽碳膜。
創造效益 本發明係關於一種薄膜及其製作方法，特別是關於一種類鑽碳膜及其製作方法。
市場資訊
聯絡人 黃偉咸 電話 07-3513121分機 2365 
E-mail：vincent@mail.mirdc.org.tw
維護單位：系統管理者
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