The goal of MIRDC

Is to promote the development and upgrading of metals and related industries in the country.

To achieve this goal

The Centre carries out research and development and provides an array of services for technology transfer to the industrial community.

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處理技術

  • 薄膜製程技術開發
    低摩擦、耐磨耗、耐蝕、抗沾黏、導電/非導電、光學性、防電磁干擾、抗菌、親疏水性等功能性薄膜開發
  • 電漿處理設備開發
    包括真空腔體設計製作、批次式/連續式/捲式濺鍍設備規劃製作、 磁控濺鍍與電弧蒸鍍靶源設計製作、滾筒式電弧蒸鍍設備、常壓電漿表面處理與常壓電漿滅菌處理設備等技術，可依廠商需要量身訂製，並結合薄膜製程整體開發
  • 熱處理/表面處理
    淬火、回火、退火、正常化、析出硬化、時效、零下處理；滲碳、氮化、精密珠擊、離子植入、常壓電漿表面處理
設備儀器
  • 真空熱處理設備、低壓氮化設備
  • 水滴接觸角量測儀、摩耗試驗機
  • 精密珠擊設備
  • 精微零件熱處理設備、超深冷設備
  • 過濾式陰極電弧蒸鍍、磁控濺鍍與離子源複合表面處理設備
  • 雙極式磁控濺鍍設備
  • 離子植入設備
  • 連續式磁控濺鍍設備(非平衡磁控濺射)
  • 捲式磁控濺鍍設備
  • 真空電子束處理設備
捲式鍍膜設備

捲式鍍膜設備

磁控濺鍍靶源

磁控濺鍍靶源

過濾式陰極電弧蒸鍍、磁控濺鍍與離子源複合表面處理設備

過濾式陰極電弧蒸鍍、磁控濺鍍與離子源複合表面處理設備

抗菌技術

抗菌技術

Update：2016-12-20 　/　 BACK
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Update : 2024-05-18

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