| 台灣半導體設備市場2008年總需求為新台幣2,318億元，其中，國產設備占210億元，約只占9.1%，進口總值為2,108
億元，高達90.9%。很明顯的，自主製造設備所占比例偏低許多。
國內知名半導體微影製程設備專業製造廠商－科毅公司，憑藉著累積多年的黃光製程與設備製造經驗，在工業局「主導性新產品開發計畫」的鼎力支持下，經由金屬中心的關鍵技術移轉與輔導，順利完成「IC封裝晶圓級全自動曝光機」的開發，成功推出屬國人自行研發製造的第一台晶圓級全自動曝光機，共同將我國先進設備製造技術，推進另一個嶄新的里程碑。
由於機台開發已順利完成，科毅公司特於10月18日，在金屬中心高雄總部研發大樓舉辦「主導性新產品開發計畫」成果發表會。除金屬中心多位高階主管、工業局官員、學界代表等熱烈與會外，國內數家半導體廠商及熟悉此產業的先進，皆踴躍出席、共襄盛舉。
金屬中心攜手產業 提升技術能量
金屬中心董事長黃啟川表示，近幾年在政府大力提倡高科技產業、高值化設備開發的同時，金屬中心也藉由政府相關計畫的推展、執行，積極與許多液晶面板及半導體產業廠商，取得密切的互動與合作，經過該中心精密機電研發團隊約七年的努力，不僅突破多項技術障礙，也先後為國內數家知名廠商，成功完成多項關鍵設備開發，影像視覺、高階運動控制與光機電整合技術的能量也顯著提升。因為這幾年所蓄積的影像伺服系統整合經驗，再加上科毅公司微影製程與手動曝光機開發的基礎，促成了雙方合作的意念。
開發晶圓級全自動曝光機，由於困難度高、開發成本所費不貲，國內在此之前並沒有任何較具規模的研發製造先例。
此計畫在經濟部工業局主導性新產品開發計畫的支持下，透過產、官、研的通力合作，歷時一年半時間，成功開發出國內第一台晶圓級全自動曝光機，目前已順利投入產線生產，並陸續接獲來自海內外知名廠家的訂單，這是國內設備開發歷史性的一刻。
先進設備研發力 帶動訂單成長
科毅總經理林憲維表示，該公司一直致力於黃光製程的關鍵設備研發製造，經過這幾年的努力，產品種類甚多，有旋轉式光阻塗佈機、烘乾機、手動光罩對準曝光機、顯影機、蝕刻機、UV平行光源及4~32吋光罩等，服務的領域涵蓋半導體、LED、LCD及太陽能產業。
這次能藉由金屬中心關鍵技術的輔導，突破重重關卡，成功開發出完全屬於國人研發製造的晶圓級全自動化曝光機，對於該公司先進設備製造能量層次的大幅推進有不少的幫助。
不僅有助於整體形象的提升，近日國內外知名單位與廠商洽詢者眾，訂單快速增長，則是對該公司的營運最實質的助益。為了因應這波業務大量需求，科毅公司已在今年九月搬遷至楊梅幼獅新廠，除了廠辦空間倍增外，並設置無塵室及精密加工設備，服務能量大幅提升。
專利智財權保護 強化競爭優勢
協助推動此開發計畫的金屬中心組長林崇田表示，晶圓級全自動曝光機屬於精密機構、影像視覺、運動控制、防震工程、光學科技、微影製程等多重領域的技術整合，開發門檻相當高，所以過去IC封廠這類自動設備全部仰賴進口。
現在透過大家的通力合作，終於有了屬於國產設備的誕生，但是面對全球競爭激烈的產業生態，除了要不斷的精進關鍵技術的研發與突破外，智財權的布局與保護，更是不容忽視的重要議題。
為保護此次得來不易的研發成果，金屬中心同意將用於全自動曝光機的影像精密對位開發的專利，授權予科毅公司，目前另一已公開的相關專利，也將投入專利保護的行列，未來不斷行銷至海內外各處的全自動曝光機，將具有更多的智權保護與競爭優勢。
深化微影曝光製程技術 延伸經營版圖
成果發表會活動最後的壓軸，是實際展示、操作即將交付國內某半導體廠的全自動曝光機。實機展示中，傲人的自動對位速度、精度及複雜的系統整合能量令與會來賓耳目一新，充分展現了國人自行開發高階設備的技術潛力，也共同見證了國人先進設備開發製造技術，邁入嶄新的歷史新頁。
有了這次成功的開發經驗，展望未來，科毅公司將不斷積極深化其所專精的微影曝光製程技術，並將觸角由原來的半導體、LED、太陽光電等，延伸至觸控產業與軟性電子等熱門產業；金屬中心也將藉由這次的寶貴研發成果，持續深耕關鍵技術之研發與光機電系統整合技術，以服務國內更多業者，為台灣的高階設備國產化貢獻更多心力。
【資料來源：經濟日報】
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